한국기계연구원(원장 박천홍) 김용진 박사 연구팀
반도체 생산 공정에서 발생하는 가스와 먼지를 동시에 줄일 수 있는 기술을 개발
지금까지 이런 배출가스는 촉매를 이용해 오염물질을 선택적으로 제거하는 '촉매환원'이나
먼지에 물을 뿌려 제거하는 습식 공정으로 줄이고 있다.
하지만, 촉매 공정에는 고온의 에너지가 필요하고, 습식 공정에는 대형 설비가 있어야 한다.
처리 과정에서 폐수와 슬러지 등 2차 오염물질도 나온다.
이 시스템은 설비 규모를 기존에 비해 30% 줄일 수 있으며
정전 산화와 습식 환원, 습식 전기집진 방식을 하나로 통합한 것으로 가스와 먼지를 동시에 줄인다.
연구팀은 관련 기술을 연구소기업인 '엔노피아'와 국내 반도체 생산공정에 시범 적용했다.
김용진 박사는 "일체형 복합방식으로 개발돼 설치 면적을 획기적으로 줄이면서
생산라인 내부에 적용할 수 있는 장점이 있다"고 말했다.