http://news.naver.com/main/read.nhn?mode=LSD&mid=sec&sid1=101&oid=029&aid=0002435127
내달중 EUV 전용 새 라인 착공.. 경쟁사와 미세공정 격차 더 벌려.. 삼성전자가 경기도 화성 반도체 공장 단
지 내 '극자외선(EUV) 노광 장비' 전용 생산라인을 건설, 이르면 2019년 초에 10나노 초반의 미세공정을 적
용한 차세대 D램을 생산하는 방안을 유력하게 검토하고 있는 것으로 전해졌다. 호황을 이어가고 있는 D램
시장에서 경쟁사와 미세공정 기술 격차를 벌리는 동시에 수익성을 확보하기 위한 것으로 풀이된다. 삼성전
자는 EUV를 활용해 오는 2019년 업계 최초로 10나노 초반의 D램을 생산할 수 있을것으로 예상된다.